氮化硅

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CAS No. 12033-89-5

分子式 N4Si3

分子量 140.2833

英文名称 Silicon nitride

中文同义词氧化镁粘结型氮化硅(IV)溅射靶, 50.8MM (2.0IN) 直径 X 6.35MM (0.250IN) 厚, 99.9% (METALS BASIS);氧化镁粘结型氮化硅(IV)溅射靶, 76.2MM (3.0IN) 直径 X 3.18MM (0.125IN) 厚, 99.9% (METALS BASIS);氧化镁粘结型氮化硅(IV)溅射靶, 76.2MM (3.0IN) 直径 X 6.35MM (0.250IN) 厚, 99.9% (METALS BASIS);氮化硅(IV), Α-相;氮化硅(IV), 99.3% (METALS BASIS), 通常 90% Β-相;氮化硅(IV),Α-相, 99.9% (METALS BASIS);氮化硅(IV), 无定形, 96+%;氮化硅(IV), 无定型, 98.5+%

EINECS号 234-796-8

MDL No. MFCD00011230

溶解性 -

熔点 1900 °C

密度 3.44 g/mL at 25 °C (lit.)

沸点 -

编辑结构

同义词

氧化镁粘结型氮化硅(IV)溅射靶, 50.8MM (2.0IN) 直径 X 6.35MM (0.250IN) 厚, 99.9% (METALS BASIS) 氧化镁粘结型氮化硅(IV)溅射靶, 76.2MM (3.0IN) 直径 X 3.18MM (0.125IN) 厚, 99.9% (METALS BASIS) 氧化镁粘结型氮化硅(IV)溅射靶, 76.2MM (3.0IN) 直径 X 6.35MM (0.250IN) 厚, 99.9% (METALS BASIS) 氮化硅(IV), Α-相氮化硅(IV), 99.3% (METALS BASIS), 通常 90% Β-相氮化硅(IV),Α-相, 99.9% (METALS BASIS) 氮化硅(IV), 无定形, 96+% 氮化硅(IV), 无定型, 98.5+%